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Explanation

又称光阻。泛指一类集成电路、半导体分立器件、显示器件等制造过程中光刻工序的辅助材料。光刻胶通常由感光树脂基体、增感剂、交联剂以及溶剂等成分组成。按照感光树脂与增感剂化学结构以及光谱吸收特性的不同，光刻胶可分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、电子束光刻胶、X射线光刻胶等不同种类。经特定光源辐照后，光刻胶的曝光区发生化学反应，使得其溶解性能发生明显变化。经显影液处理后.可溶性部分被去除，从而得到i所需电路图形。光刻胶按照光化学反应机制的不同可分为负性光刻胶和正性光刻胶两类。曝光后，光照部分发生交联形成不可溶物质的为负性光刻胶；反之，曝光区发生降解反应而形成可溶性物质的为正性光刻胶。