利用气体放电等离子体使气相组元电离，并在离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基片上形成镀层的技术，是一种等离子体增强的物理气相沉积。用得较多的是空心阴极放电离子镀，热电子增强电子束离子镀，阴极电弧离子镀。离子镀的特点是，由于离子轰击作用使镀层致密，结合强度高，可在基体温度低于550℃时得到质量良好的镀层。由于在基体上施加了负偏压，改善了绕镀性。离子镀最突出的成效是高速钢刀具氮化钛耐磨镀层和氮化钛装饰镀层的工业化。
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氮化（nitriding）
钢（steel）
高速钢（high speed steel）
基体（matrix）
物理气相沉积（physical vapor deposition）
相（phase）
