将离子源产生的离子直接沉积在材料表面的镀膜技术。离子束沉积装置由离子源、真空室、真空系统、控制系统和电源组成。离子束沉积采用的离子源通常要求用金属离子直接作镀料离子，这类离子是由电极与熔融金属之间的低压弧光放电产生。离子束沉积的特点是易于控制沉积离子的能量，可以使离子束偏转，因而可用质量分析器净化离子束，获得高纯度的膜层。离子束沉积要求离子的能量为lOOOeV左右，镀膜速率受离子源提供离子速率的限制，远低于工业生产采用的蒸镀和磁控概射。主要用于新型薄膜材料的研制。
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材料（materials）
材料表面（surface of materials）
蒸镀（vapor exposition）
