Term Detail

Explanation

在真空系统中离化所需要的气体或固体蒸气，引出离子束后，用数千电子伏特至数百千电子伏特加速后直接注人中心固体材料，形成一定深度的离子注入层，通过改变材料表面的结构和组分，达到改善材料力学性能和物理化学性能的目的，是一种材料表面改性的工艺。粒子注人在半导体微电子学中已广泛应用于掺杂，制作绝缘隔离层，形成硅化物及合成SOI材料等。在改善金属和合金材料的力学性能、提高抗氧化、抗腐蚀性能等方面的研究也广泛进行。此外，离子注入还被用于陶瓷、聚合物、绝缘体、高温超导、金刚石等材料的表面改性研究。作为材料表面改性重要手段的离子注入，有很多优点:①几乎所有的元素都可以注入，不受固体固溶度的限制；②对各种基材都可进行注入改性；③可以在低温、常温和高温下进行注入；④注入离子的深度、浓度、分布易于控制和重复；⑤采用干净的真空工艺，无公害问题，清洁、安全、快速；⑥注入层与基体间不存在不连续的界面，或可形成良好的简便过渡层；⑦可与其他工艺如PVD、CV结合，形成新的离子束表面处理技术。但离子注入的缺点:①注入层太浅；②离子注入的视线性，使复杂形状的零部件注入有困难。