Explanation
又称脉冲激光烧蚀(pulsedlaserablation，PLA)，是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。PLD的系统设备简单，相反，它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能董脉冲辐射冲击固体靶时-激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移及最后的膜生成过程。所以，PLD一般可以分为以下四个阶段:①激光辐射与靶的相互作用；②熔化物质的动态；I③熔化物质在基片的沉积；④薄膜在基片表面的成核(nucléation)与生成。PLD主要优点:易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性:沉积速率高-试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；发展潜力巨大，具有极大的兼容性；便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。
Classification
特种功能材料 -> 超导材料 -> 超导材料制备方法