是借助温度禅度而使狭窄的熔区移过材料而生长出单晶的方法。籽晶放在料舟的左端,开始时使籽晶微熔,同时保持表面清洁,随着加热器向右移动,熔区也向右移动。在熔区的左端由于温度的降低而析出晶体。有水平熔融法和悬浮区熔法。区熔法的优点是可以控制杂质的生长,特别是悬浮区熔法由于不使用坩埚,其加热温度不受坩埚的熔点的限制,可用来生长高熔点晶体,如钨单晶(340CTC),而且可避免坩埚的污染。由于此方法只能在真空中使用,所以有高蒸气压的材料或会分解的材料不能使用此方法。采用区域熔化方法和杂质移除技术相结合,可以得到高纯金属,随着生产的发展和技术的进步,还出现了液封区域熔化技术和微量区熔技术,使区熔法的应用更为广泛。
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