一种光刻制程助剂。利用对曝光前后光阻溶解性的差异将投射到光阻表面的图案显影出来。根据光阻的不同，可分为负胶和正胶。一般为有机溶剂或碱性水溶液，但由于有机溶剂型成本高，环境污染大，碱性水溶液型日益成为主流。碱液一般由高浓度的碱液稀释而成，可据实际需要添加相应表面活性剂等助剂。常用的碱有碳酸钠、碳酸钾、氢氧化钠、氢氧化钾、四甲基氢氧化铵等。四甲基氢氧化铵显影液具有良好的显影能力，且不含金属离子，不会对器件性能产生不良影响，已成为半导体行业的主流显影液，使用浓度通常为2.38%左右。
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光阻（photoresistance）
相（phase）
助剂（additive）
