由化学计量比为1:2:3的钇、钡、铜三种元素与氧原子组成的高温超导薄膜。其正交相时为超导相。几乎所有制备薄膜的方法，如电子束蒸发法、分子束外延法、离子束溅射法、磁控溅射法、脉冲激光沉积法、化学气相沉积（CVD）法等都可用来制备质量良好的薄膜。在许多单晶基片上以及一些有隔离层的复合基片上.都可以外延生长成轴取向的高质量的钇钡铜氧薄膜。
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磁控溅射（magnetron sputtering）
单晶（single crystal）
分子束外延（molecular beam epitaxy）
复合（composition）
化学气相沉积（chemical vapor deposition）
溅射（sputtering）
离子束溅射（ion beam sputtering）
临界电流（critical current）
临界电流密度（critical current density）
密度（density）
脉冲激光沉积法（pulsed laser deposition）
取向（orientation）
外延薄膜（epitaxial film）
外延生长（epitaxial growth）
相（phase）
钇钡铜氧（YBa2Cu307）
转变（transformation）
